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活性氧離子除臭設備廠家直銷

發(fā)布日期:2021/04/09

活性氧離子除臭原理
 
惡臭氣體在光解雙離子深度氧化系統(tǒng)中,經(jīng)過四段氧化:裂解氧化、催化氧化、雙離子氧化、吸附氧化,化合鍵發(fā)生斷裂,得到最終產(chǎn)物水、二氧化碳及低分子無毒無味化合物。
 
裂解氧化

 
本系統(tǒng)裝配大功率低壓水銀紫外(UV)放電管,產(chǎn)生大量高能紫外線。其中 170nm 及 185nm 波段紫外線能打斷 NH3、H2S、苯等絕大部分無機或有機高分子惡臭化合物的化學鍵,使其裂解為獨立的、呈游離狀態(tài)的原子。進而被紫外線產(chǎn)生的具有強氧化性的臭氧氧化,重新聚合成低分子的化合物。
 
催化氧化
 
納米光觸媒 TiO2 吸收波長閾值在紫外區(qū)域,當吸收 254nm 波段的紫外光后,其價帶電子發(fā)生帶間躍遷,從而產(chǎn)生光生電子(e-)和空穴(h+)。吸附在納米光觸
 
TiO2 顆粒表面的溶解氧俘獲電子形成超氧負離子,而空穴將吸附在催化劑表面的 OH-和 H2O 氧化成·OH。從而具有很強氧化性的超氧負離子和·OH,能將絕大多數(shù)的有機物氧化,并消除剩余 O3 分子。
 
雙離子氧化
 
雙離子氧化段:通過特有介質阻擋放電技術產(chǎn)生大量高能活性氧離子(產(chǎn)生量遠高于其他離子技術),以及少量自由羥基。由于活性氧較高的能量和電壓儲值而與惡臭物質產(chǎn)生活躍的化學反應,將惡臭分子氧化脫臭。
 
吸附氧化
 
吸附氧化段采用特制納米礦晶石,內表面附著氧離子,有很強的氧化作用。當剩余未反應的惡臭分子和紫外燈管產(chǎn)生的氮氧化物經(jīng)過活性炭時,被氧離子氧化。同時活性炭還能吸附各段氧化產(chǎn)生的化合物,得到最終無害產(chǎn)物水和二氧化碳。
 
本系統(tǒng)實際上是特殊波段的高能裂解、臭氧對廢氣分子分解氧化、催化劑將反應增速放大、雙離子的深層凈化等一系列功能的協(xié)同作用,使異味物質降解轉化成無毒無味的低分子化合物、水及二氧化碳,達到凈化空氣的作用。
 

活性氧離子技術原理圖
 

活性氧離子系統(tǒng)除臭特點及優(yōu)勢
 
高效除惡臭
 
能充分有效利用各波段紫外線,對揮發(fā)性有機物(VOCs)、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要惡臭物質,去除效率可達 95%,脫臭效果大大超過 頒布的《惡臭污染物排放標準(GB14554-93)》中的一級 15 米高空排放標準。
 
無需添加任何物質
 
只需要設置相應的排風管道和排風動力,無需添加任何物質參與化學反應,沒有二次污染。
 
適應性強
 
可適應中低濃度,大氣量,不同惡臭氣體物質的脫臭凈化處理,可每天 24小時連續(xù)工作,運行穩(wěn)定可靠。
 
運行成本低
 
本設備無任何機械動作,無噪音,無需專人管理和日常維護,只需作定期檢查。本設備能耗低,只需電費,沒有其他耗材。
 
設備占地面積小
 
適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件,設備占地面積< 10m2/ 處理10000m3/h 風量。

活性氧離子系統(tǒng)工藝組成
 

 

 

活性氧離子系統(tǒng)應用領域